特許

J-GLOBAL ID：200903096174584233

無機ポリマーの形成方法

発明者： 中 島 淳 二 ,  西 村 和 彦 ,  山 本 安 信
出願人/特許権者： アイシン精機株式会社 ,  アイシン辰栄株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344635
公開番号（公開出願番号）：特開平6-190271
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、紫外線を用いることなく、より低温で無機ポリマーを形成させる方法を提供することである。【構成】M(OR)n で表される金属アルコキシド(例えばテトラエトキシシラン)とアルコールと、水と、酸または塩基を混合攪拌し、基材表面に塗布した後、基材表面の塗膜に赤外線を照射してポリマー化させることを特徴とする、無機ポリマーの形成方法である。

請求項（抜粋）：

金属化合物と、アルコールと、水と、酸または塩基とを混合して溶液を調製する第1の工程と、前記溶液を基材表面に塗布して塗膜を形成する第2の工程と、前記塗膜に赤外線を照射して前記塗膜を焼成させる第3の工程とを順次行うことを特徴とする無機ポリマーの形成方法。

IPC (5件)：

B01J 19/12 ,  B05D 7/24 302 ,  B05D 7/24 ,  C01B 33/12 ,  C09D183/04 PMT