特許
J-GLOBAL ID：200903096196637900
両末端官能性ジフェニルシロキサンオリゴマー及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-052010
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258417
出願日： 1994年03月23日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 フェニル基及びメチル基よりも反応性に富む官能基であって架橋反応によって分子間架橋を形成しうるものを有するシリル基又はシロキサニル基で両末端を停止したジフェニルシロキサンのオリゴマーを提供する。【構成】 下記一般式(I)【化1】(式中R1 ,R2 ,R3 ,R5 、またR6 ,R7 ,R8 ,R9 ,R10の内の少なくとも1つはH又はC2 〜C8 の炭化水素基(フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニルを除く)であり、残りはフェニル又はメチル。Phはフェニル。0≦k,n≦3,k+n>0。3≦m≦50。)で示される両末端官能性ジフェニルシロキサンオリゴマー。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)【化1】(式中R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R5 のうちの少なくともひとつの置換基、またR6 ,R7 ,R8 ,R9 ,R10においてもこれらのうちの少なくともひとつの置換基は水素原子もしくは炭素数2から8の飽和もしくは不飽和の炭化水素基(但し、フェニル基、トリル基、キシリル基、およびエチルフェニル基を除く)を表わし、残りはフェニル基またはメチル基を表わす。また、R1 ,R2 及びR3の内2つが共同して環状の炭化水素を形成していてもよく、R6 ,R7 及びR8についても同様である。また、R4 及びR5 が同時にフェニル基であるときはR9 とR10は同時にフェニル基となることはなく、R9 及びR10が同時にフェニル基であるときはR4 とR5 は同時にフェニル基となることはない。Phはフェニル基を表わす。k+1およびn+1は該ジフェニルシロキサンの両末端修飾シロキサニル基の平均重合度を表わし、kおよびnはそれぞれ独立に0から3のあいだの数である。但しk+n>0である。mは3から50のあいだの数で、該オリゴマーのジフェニルシロキシユニット(-Ph2 SiO-)の平均重合度を表わす。)で示される両末端官能性ジフェニルシロキサンオリゴマー。
IPC (2件)：
C08G 77/38 NUF
, C07F 7/08
