特許

J-GLOBAL ID：200903096205859309

レジスト組成物

発明者： 尾家 正行 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-108822
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281730
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像度、耐エッチング性、及び保存安定性などのレジスト特性が高度にバランスのとれたレジスト材料を提供すること。【構成】 酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が特定のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸分解性基を有する化合物、及び活性光線の照射により酸を生成する化合物を含有するレジスト組成物において、活性光線の照射により酸を生成する化合物が一般式(I)〜(VII)で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のハロゲン含有多価フェノール化合物であることを特徴とするレジスト組成物。一般式(I)【化1】R1〜R6:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R7〜R10:水素、アルキル基一般式(II)【化2】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R11:水素、アルキル基一般式(III)【化3】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R14:水素、アルキル基一般式(IV)【化4】R1〜R8:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R10:水素、アルキル基A :単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリーレン基、置換アリーレン基一般式(V)【化5】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R12:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VI)【化6】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R11:水素、アルキル基B :酸素、単結合一般式(VII)【化7】R1〜R4:水素、ハロゲン、水酸基、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基、置換アルコキシ基(ただし、少なくとも1つはハロゲン)R9〜R10:水素、アルキル基B :酸素、単結合

IPC (4件)：

G03F 7/029 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027