特許

J-GLOBAL ID：200903096208100672

レジスト膜画像の除去方法

発明者： 並河 亮 ,  木原 康夫 ,  斎藤 潔 ,  相澤 馨 ,  下段 秀明 ,  中沢 準
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-303860
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196398
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、半導体集積回路装置の製造において、半導体基板上のイオンを注入された不要なレジスト膜からなる画像を除去する方法を提供する。【構成】 半導体基板上に存在するレジスト材からなる画像の除去方法において、前処理としてレジスト膜画像に、該画像の除去を容易にする機能を有する物質を接触させ、次いでこのレジスト膜画像上に接着シート類を貼り付け、この接着シート類とレジスト材とを一体に剥離する。

請求項（抜粋）：

半導体基板上に存在するレジスト材からなる画像の除去方法において、前処理としてレジスト膜画像に、該画像の除去を容易にする機能を有する物質を接触させ、次いでこのレジスト膜画像上に接着シート類を貼り付け、この接着シート類とレジスト材とを一体に剥離することを特徴とするレジスト膜画像の除去方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  C09J 5/00 JHB ,  C09J 7/02 JJU ,  G03F 7/42