特許
J-GLOBAL ID：200903096216297523
セラミック中空円盤積層ばねとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209628
公開番号（公開出願番号）：特開平6-033963
出願日： 1992年07月14日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：
【要約】【目的】 高温環境下で使用できるセラミック中空円盤積層ばねとその製造方法を提供する。【構成】 セラミック粉末とバインダとを混練して形成したセラミック中空円盤4と、周方向等間隔位置に半径方向に延びるスリット6を有し且つ該スリット6に前記セラミック中空円盤4と同材質のセラミックリブ8を嵌め込んだプラスチック中空円盤7とを、前記セラミックリブ8の露出面に溶媒を塗布した上で前記セラミック中空円盤4を挟んで隣接するプラスチック中空円盤7相互のスリット6が周方向に互い違いにずれるよう複数層交互に積み重ねて積層体10を構成し、該積層体10を適度な加圧力で平坦に押さえながら乾燥させ、次いで、前記プラスチック中空円盤7及びバインダ類を加熱により気化分解し、然る後、前記セラミック中空円盤4及びセラミックリブ8を焼成する。
請求項（抜粋）：
積層された複数のセラミック中空円盤間に、該セラミック中空円盤の周方向に等間隔で配置され且つ積層方向にセラミック中空円盤を挟んで隣接する相互が互い違いとなるよう周方向に所要角度ずらして配置した複数のセラミックリブを備えてなることを特徴とするセラミック中空円盤積層ばね。
IPC (3件)：
F16F 1/32
, B28B 11/02
, C04B 38/00 301
