特許

J-GLOBAL ID：200903096243372693

パターン計測方法およびパターン計測装置

発明者： 乙武 太朗
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大菅 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135157
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321027
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】 被計測パターンの計測を行なう際、エッジ検出光学系、ステージ干渉計の中に内在していた、被計測パターンの位置に依存するシステマチックな誤差を低減し、被計測パターンのパターン情報を正確に計測するパターン計測方法及びパターン計測装置を提供することを課題とする。【解決手段】 ステージとパターン情報計測手段とを相対移動させ、上記ステージ上に載置された基板上の被計測パターンを複数回計測し、上記複数回計測したパターンの情報の平均値を算出する。このことにより、被計測パターンの計測される位置が異なる位置において複数回行われるので、被計測パターンの線幅を含むパターン情報を計測する上で発生する各種のシステマチックな誤差が平均化効果により互いに相殺され、計測値に内在する誤差を低減することができる。

請求項（抜粋）：

ステージとパターン情報計測手段とを相対移動させ、該ステージ上に載置された基板上の被計測パターンを複数回計測し、該複数回計測したパターンの情報の平均値を算出することを特徴とするパターン計測方法。

IPC (2件)：

G01B 11/00 ,  G01B 11/02

FI (2件)：

G01B 11/00 H ,  G01B 11/02 H

Fターム (29件)：

2F065AA03 ,  2F065AA12 ,  2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065AA22 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065EE08 ,  2F065EE10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF44 ,  2F065FF55 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL61 ,  2F065MM03 ,  2F065MM07 ,  2F065MM16 ,  2F065PP03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ42 ,  2F065SS02 ,  2F065SS13