特許
J-GLOBAL ID：200903096244217926
高耐久性低熱輻射多層膜構造
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-226601
公開番号（公開出願番号）：特開平9-071441
出願日： 1995年09月04日
公開日（公表日）： 1997年03月18日
要約：
【要約】【課題】 低い熱輻射を有しつつも耐久性が改善された多層膜構造を提供する。【解決手段】 基体上に金属酸化物膜とAgを主成分とする膜とを交互に積層した多層膜構造であって、金属酸化物膜の少なくとも一つがZnOxを含む膜であり、この多層膜のX線回折図におけるウルツァイト型構造ZnO(002)回折線の積分幅とブラッグ角から算出される平均結晶子サイズが20nm以下であるような構造とした。
請求項（抜粋）：
基体上に金属酸化物膜とAgを主成分とする膜とを交互に少なくとも(2n+1)層(ただし、nは自然数)積層した多層膜構造において、前記金属酸化物膜の少なくとも一つがZnOxを含む膜であり、この多層膜のX線回折図におけるウルツァイト型構造ZnO(002)回折線の積分幅とブラッグ角から算出される平均結晶子サイズが20nm以下であることを特徴する多層膜構造。ただし、平均結晶子サイズは以下の式により算出される。ε=180・λ/π・βi・cosθここで、εは平均結晶子サイズであり、λは入射X線の波長であり、βiは積分幅であり、θはブラッグ角である。
IPC (3件)：
C03C 17/36
, B60J 1/00
, E06B 5/00
C03C 17/36
, B60J 1/00 H
, E06B 5/00 B
