特許

J-GLOBAL ID：200903096246377980

低分子量重合体の製造方法、低分子量重合体、トナーの製造方法及びトナー

発明者： 大口 善之
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-266022
公開番号（公開出願番号）：特開2001-089504
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年04月03日
要約：

【要約】【課題】 純度の高い低分子量重合体を安価に、かつ、効率的に製造する方法を提供する。【解決手段】 スチレン系単量体単独を単量体原料とするか、又は、主成分のスチレン系単量体と(メタ)アクリル酸エステル系単量体及び/又はその他のビニル系単量体とを単量体原料とし、重合反応系の系中に、上記単量体原料とラジカル重合開始剤との全量又は一部を投入することにより低分子量重合体を製造する方法であって、投入時間T<SB>a</SB> と非投入時間T<SB>na</SB>が下記の式(1)を満足する条件となるように、上記ラジカル重合開始剤の全投入量を複数回に分割して投入する低分子量重合体の製造方法。T<SB>a</SB> <t<SB>p</SB> <T<SB>na</SB>・・・(1)(式中、t<SB>p</SB> は、重合反応系の温度pにおけるラジカル重合開始剤の半減期)

請求項（抜粋）：

スチレン系単量体単独を単量体原料とするか、又は、主成分のスチレン系単量体と(メタ)アクリル酸エステル系単量体及び/又はその他のビニル系単量体とを単量体原料とし、重合反応系の系中に、前記単量体原料とラジカル重合開始剤との全量又は一部を投入することにより低分子量重合体を製造する方法であって、投入時間T<SB>a</SB> と非投入時間T<SB>na</SB>が下記の式(1)を満足する条件となるように、前記ラジカル重合開始剤の全投入量を複数回に分割して投入することを特徴とする低分子量重合体の製造方法。T<SB>a</SB> <t<SB>p</SB> <T<SB>na</SB>・・・(1)(式中、t<SB>p</SB> は、重合反応系の温度pにおけるラジカル重合開始剤の半減期)

IPC (5件)：

C08F 2/00 ,  C08F 12/04 ,  C08L 25/04 ,  C08L101/00 ,  G03G 9/087

FI (5件)：

C08F 2/00 A ,  C08F 12/04 ,  C08L 25/04 ,  C08L101/00 ,  G03G 9/08 325

Fターム (63件)：

2H005AA01 ,  2H005AB02 ,  2H005CA04 ,  2H005EA06 ,  4J002BC041 ,  4J002BC042 ,  4J002BC071 ,  4J002BC072 ,  4J002BC081 ,  4J002BC082 ,  4J002BC091 ,  4J002BC092 ,  4J002BC111 ,  4J002BC112 ,  4J002BC121 ,  4J002BC122 ,  4J002FD090 ,  4J002FD100 ,  4J002FD160 ,  4J002GH00 ,  4J011AA01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB07 ,  4J011BB08 ,  4J100AA02R ,  4J100AB02P ,  4J100AB03P ,  4J100AB04P ,  4J100AB07P ,  4J100AB08P ,  4J100AC03R ,  4J100AD03R ,  4J100AG04R ,  4J100AJ01R ,  4J100AJ02R ,  4J100AJ08R ,  4J100AJ09R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AL11Q ,  4J100AM02R ,  4J100AM15R ,  4J100AM47R ,  4J100AM48R ,  4J100BA05P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA15R ,  4J100BA16R ,  4J100BA31Q ,  4J100BA65Q ,  4J100BB01Q ,  4J100BC04R ,  4J100BC43P ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100JA09