位置計測方法及び露光方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：飯塚雄二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-185610
公開番号（公開出願番号）：特開平10-012544
出願日： 1996年06月26日
公開日（公表日）： 1998年01月16日
要約：

【要約】【課題】より正確にマスクの位置を計測できる位置計測方法を提供すること。【解決手段】補正用マスク(50)上に形成された複数のマーク(54)の位置を第1の位置(M1)として計測するとともに、補正用マスク(50)上の複数のマーク(54)を感光基板(12)上に転写し、当該複数のマーク(54)の転写位置を第2の位置(M2)として求める。そして、第2の位置(M2)に対する第1の位置(M1)のずれ量を補正データ(△M)として求める。その後、第1の位置(M1)の計測と同様の方法により、露光用マスク(10)に形成された複数のマーク(26a〜26h)の位置を第3の位置(M3)として計測し、これら第3の位置(M3)を補正データ(△M)に基づいて補正する。

請求項（抜粋）：

露光用マスクに形成されたパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に転写するのに先立ち、前記露光用マスクの位置を計測する位置計測方法において、前記露光用マスクと異なる補正用マスクを用い、該補正用マスク上に形成された複数のマークの位置を第1の位置として計測する工程と;前記補正用マスク上の複数のマークを前記感光基板上に転写し、当該複数のマークの転写位置を第2の位置として求める工程と;前記第2の位置に対する前記第1の位置のずれ量を補正データとして求める工程と;前記第1の位置の計測と同様の方法により、前記露光用マスクに形成された複数のマークの位置を第3の位置として計測する工程と;前記第3の位置を前記補正データに基づいて補正する工程とを含むことを特徴とする位置計測方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02F 1/13 101 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L 21/30 525 W , G02F 1/13 101 , G03F 9/00 H

引用特許：

審査官引用 (3件)

投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-136289 出願人：株式会社ニコン
露光方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-168214 出願人：株式会社ニコン
特開昭56-055041

前のページに戻る