特許

J-GLOBAL ID：200903096259442993

有害物質処理方法およびその装置

発明者： 青木 泰道 ,  菅田 清 ,  仙波 範明 ,  浅野 昌道 ,  橋爪 隆夫
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-006140
公開番号（公開出願番号）：特開2000-102793
出願日： 1999年01月13日
公開日（公表日）： 2000年04月11日
要約：

【要約】【課題】 埋立地浸出水や産業廃水等中の例えば有機ハロゲン系化合物などのような有害物質を処理する有害物質処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 予めSS成分を分離除去した廃水11にpH調整剤12を添加してpHを弱酸性域から中性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段13を有する第1の処理槽14と、pH調整剤15を添加して廃水中のpHを中性域から弱アルカリ性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段16を有する第2の処理槽17とを備えてなる。

請求項（抜粋）：

廃水等の被処理水中のpHを弱酸性域から中性とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水中の有害物質を分解処理すると共に、pHを中性域から弱アルカリ性域とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水等の被処理水中の難分解物質を分解処理することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/72 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/78

FI (5件)：

C02F 1/72 Z ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/78

Fターム (26件)：

4D037AA11 ,  4D037AB14 ,  4D037BA18 ,  4D037BB05 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D037CA14 ,  4D038AA08 ,  4D038AB14 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BB07 ,  4D038BB16 ,  4D038BB20 ,  4D050AA12 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050CA13