非酸性ニッケルめっき浴及び該めっき浴を用いためっき方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-322705
公開番号（公開出願番号）：特開平9-157884
出願日： 1995年12月12日
公開日（公表日）： 1997年06月17日
要約：

【要約】【課題】セラミック部分を複合した部品のセラミック部分を侵食することがなく、かつ本来めっきされるべき部分にのみニッケルめっきを施すことができるニッケルめっき浴を提供すること。【解決手段】ニッケル塩、ニッケルとキレートを形成するための錯化剤を含有し、無機陰イオンの合計含有量1.5モル/l以下であり、かつ浴のpHが7〜14であるニッケルめっき浴。

請求項（抜粋）：