特許

J-GLOBAL ID：200903096262804510

露光方法及び露光装置

発明者： 横田 宗泰
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-055745
公開番号（公開出願番号）：特開2002-258487
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 感光基板に形成されているパターンに位置合わせして複数のパターンを継ぎ合わせて露光する際、各パターン間の形状誤差を容易且つ精度良く補正しつつ感光基板にパターンを露光することができる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 露光装置EXは、感光基板Pに形成されたマトリックス状のパターンの配列の直交度を計測する計測装置Sと、計測されたパターンの配列の直交度と次に露光されるパターン像の直交度との差が小さくなるようにパターン像の直交度を補正する直交度補正部材Bとを備えているので、各パターンの直交度誤差を容易且つ精度良く補正してパターンを感光基板Pに露光することができる。

請求項（抜粋）：

マトリックス状にパターンが形成された感光基板に、該パターンに位置合わせして第1の露光と第2の露光とによるマトリックス状のパターンの像を継ぎ合わせて露光する露光方法において、前記感光基板に形成されたパターンの配列の直交度を計測し、該パターンの配列の直交度と前記第1の露光及び前記第2の露光におけるパターン像の直交度との差が小さくなるように、前記パターン像の直交度を補正することを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 Z ,  G03F 9/00 Z ,  H01L 21/30 514 B

Fターム (7件)：

2H097AA11 ,  2H097AB05 ,  2H097KA00 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05