特許

J-GLOBAL ID：200903096263392267

洗浄剤組成物

発明者： 小倉 英史 ,  堀部 峰子 ,  山本 信之 ,  戸田 雅之 ,  鈴木 薫
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-179627
公開番号（公開出願番号）：特開2001-354998
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 広範な適用分野で優れた洗浄力を発揮する洗浄剤組成物の提供。【解決手段】 下記A及び/又はBのアルキルグリセリルエーテル類又はこれらの誘電体を含有する洗浄剤組成物。A)式1のトリアルキルグリセリルエーテル類;(R1〜R3は同一又は異なっても良いC1-C22の飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖又は環式の炭化水素基を表わす。)B)式2及び3の2種のジアルキルグリセリルエーテル類混合物;(R1は1と同じであり;R4及びR5はR1〜R3と同様の基を表わす。)

請求項（抜粋）：

下記(A)及び/又は(B)のアルキルグリセリルエーテル類又はこれらの誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。(A)下記一般式(1)で表わされるトリアルキルグリセリルエーテル類;【化1】(式中、R1、R2及びR3は、互いに同一又は異なっても良いC1-C22の飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖又は環式の炭化水素基を表わす。)(B)下記一般式(2)及び(3)で表される2種のジアルキルグリセリルエーテル類混合物;【化2】(式中、R1は、一般式(1)の定義と同じであり;R4及びR5は、互いに同一又は異なっても良いC1-C22の飽和もしくは不飽和の直鎖、分岐鎖又は環式の炭化水素基を表わす。)

IPC (3件)：

C11D 7/26 ,  C11D 1/68 ,  C11D 7/50

FI (3件)：

C11D 7/26 ,  C11D 1/68 ,  C11D 7/50

Fターム (15件)：

4H003AB22 ,  4H003DA01 ,  4H003DA02 ,  4H003DA05 ,  4H003DA09 ,  4H003DA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DA16 ,  4H003DB02 ,  4H003ED02 ,  4H003ED03 ,  4H003ED28 ,  4H003ED29 ,  4H003FA03