特許
J-GLOBAL ID：200903096263422026
異物検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-278920
公開番号（公開出願番号）：特開平5-093696
出願日： 1991年10月01日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 空間フィルタを用いて散乱光の一部を遮光しても信号レベルをあまり低下させることなく、S/N 比のよい異物検査装置を提供することを目的とする。【構成】 例えば、フーリェ変換面に設けられたTVカメラ52により、あらかじめサンプルとして取り出されたあるウエハ1の各チップにおけるフーリェ変換パターンが受像され、情報処理装置の処理により各フーリェ変換パターンの共通パターン(または論理和パターン)が抽出され、この抽出されたパターンに対応する遮光パターンが描かれた空間フィルタをフーリェ変換面に設けることにより光センサの受光信号においてウエハ1からの規則的パターンの回折光が除去され、ガラス板や写真フィルムのような赤外線透過率が高い透明板を用いているので、遮光パターンにより除去された光量低下分を補足することができ、その結果、パターン上に付着した異物の散乱光のS/N比が向上し、異物を良好に検出できる。
請求項（抜粋）：
規則的なパターンが形成された第1および第2のパターン領域を有するウエハ,レチクル等の被検体表面に対し、レーザビームを照射し、その回折光を含む散乱光を集光レンズにより集光する光学系と、前記集光レンズにより形成されるフーリェ変換面において前記回折光により形成される第1のパターン領域のパターン特有のフーリェ変換パターンに適合する遮光パターンを有する第1の空間フィルタと、前記フーリェ変換面において前記回折光により形成される第2のパターン領域のパターン特有のフーリェ変換パターンに適合する遮光パターンを有する第2の空間フィルタと、光学センサと、第1および第2の空間フィルタのいずれかを前記フーリェ変換面に配置してこれを経て前記光学センサに前記被検体表面からの反射光を受光させる空間フィルタ選択機構とを備え、第1のパターン領域に対して異物検査をするときには第1の空間フィルタが選択され、第2のパターン領域に対して異物検査をするときには第2の空間フィルタが選択されることを特徴とする異物検査装置。
IPC (5件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G01B 11/30
, G03F 1/08
, H01L 21/66
