特許
J-GLOBAL ID：200903096268146159
垂直磁界の相対位置設定方法及びその方法に用いられる相対位置設定用光磁気ディスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲本 義雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-265508
公開番号（公開出願番号）：特開平6-089478
出願日： 1992年09月08日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：
【要約】【目的】 フライングヘッドの磁気ヘッドチップがつくる磁界分布の中央に、正確に光スポットを配置する。【構成】 S1で、再生用光ビームを照射し、予め記録された情報により検査用領域を検出して、光学ヘッドとフライングヘッドを粗調して配置する。S2で、XYテーブルを初期位置に設定する。S3で、磁気ヘッドに駆動信号を印加して、ガーネット膜の保磁力より大きい磁界を繰り返し発生させる。S4で、XYテーブルを操作し、フライングヘッドをX方向に移動させ、再生信号のピーク値を測定し、Xのセンターを算出する。同様に、S5で、S4で算出したXのセンターを固定した状態で、XYテーブルを操作し、フライングヘッドをY方向に移動させ、再生信号のピーク値を測定し、Yのセンターを算出し、XY方向のフライングヘッドの位置を決定する。
請求項（抜粋）：
光ビーム照射手段により光磁気ディスクの記録面に形成される光スポットに対して、前記光ビーム照射手段に対向し一体的に構成された垂直磁界発生手段により前記光スポット及びその周辺に印加される垂直磁界の相対位置を設定する垂直磁界の相対位置設定方法であって、前記光ビーム照射手段と前記垂直磁界発生手段との初期相対位置を設定する初期相対位置設定プロセスと、前記垂直磁界発生手段により前記垂直磁界を前記光スポット及びその周辺に印加する垂直磁界印加プロセスと、前記光磁気ディスクの記録面に平行な面内の第1の方向に前記垂直磁界発生手段または前記光ビーム照射手段を移動し、前記光スポット位置に対する垂直磁界の最大値を検出し、前記第1の方向における垂直磁界の相対位置を設定する第1の相対位置設定プロセスと、前記光磁気ディスクの記録面に平行な面内の、前記第1の方向と独立した第2の方向に前記垂直磁界発生手段または前記光ビーム照射手段を移動し、前記光スポット位置に対する垂直磁界の最大値を検出し、前記第2の方向における垂直磁界の相対位置を設定する第2の相対位置設定プロセスとを備えたことを特徴とする垂直磁界の相対位置設定方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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