特許

J-GLOBAL ID：200903096306320184

描画装置

発明者： 小 原 義 久 ,  竹 中 康 晴
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (5件)： 吉武 賢次 ,  橘谷 英俊 ,  佐藤 泰和 ,  吉元 弘 ,  川崎 康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-178542
公開番号（公開出願番号）：特開2006-004088
出願日： 2004年06月16日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

【課題】 ハードウェアのコストを削減しつつ高画質の描画を行えるようにする。【解決手段】 の描画装置は、アプリケーション部1と、ジオメトリ部2と、ラスタライザ3と、ビデオメモリ4と、表示装置5とを備え、ラスタライザ3は、フラグメント計算準備部11と、フラグメント計算部12と、フラグメント操作部13とを有する。1ピクセル内に含まれるポリゴンの数に応じてフラグメントを設け、フラグメントIDとフラグメント情報を登録したテーブルを生成し、発生頻度の低いフラグメントIDを圧縮するとともに、発生頻度の高いフラグメントIDの符号長を短くするため、データ量を削減しつつ、画像の乱れの少ない高画質の描画を行うことができる。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

対応するポリゴンの色情報に関するフラグメントを生成するフラグメント生成手段と、 生成されたフラグメントを格納するフラグメント格納手段と、 前記フラグメント格納手段に格納されたフラグメントを圧縮するフラグメント圧縮手段と、 前記フラグメント圧縮手段で圧縮されたフラグメントを格納する描画データ格納手段と、を備えることを特徴とする描画装置。

IPC (1件)：

G06T 15/00

FI (1件)：

G06T15/00 100A

Fターム (8件)：

5B080AA13 ,  5B080CA01 ,  5B080FA02 ,  5B080FA03 ,  5B080FA13 ,  5B080FA14 ,  5B080FA17 ,  5B080GA00

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 描画処理方法及び装置、半導体デバイス、描画処理プログラム及び記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-276218   出願人：株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント