特許
J-GLOBAL ID：200903096313798758
薄膜製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-243776
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078192
出願日： 1991年09月24日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：
【要約】【目的】本発明は、放射光の透過性がよく、しかも気密性の高い極薄の薄膜を容易に得ることにある。【構成】真空容器1内でBe蒸発源3に電子ビームを照射してBeを溶融すると共に分子線を発生させ、この分子線の入射によりそれぞれNaCl基板10および水晶振動子7上にBe膜を形成させ、その膜厚が予定の厚みに達したことが水晶振動子7の発振周波数の変化により検出されると、前記NaCl基板を真空容器1から取出して水溶液中に浸漬することにより、前記NaCl基板を溶解させてBe膜12のみを得る。
請求項（抜粋）：
真空雰囲気中で蒸発源に電子ビームを照射して原材料を溶融することにより分子線を発生させ、この分子線を可溶性基板上に入射して成膜させた後、この可溶性基板を真空雰囲気中から取出して溶液中に浸漬することにより、前記可溶性基板を溶解させて薄膜を得るようにしたことを特徴とする薄膜製造方法。
IPC (5件)：
C30B 23/08
, C30B 29/02
, C23C 14/30
, C23C 14/58
, H01L 21/203
