特許
J-GLOBAL ID:200903096318914136
転動装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 崔 秀▲てつ▼
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-186916
公開番号(公開出願番号):特開2006-118702
出願日: 2005年06月27日
公開日(公表日): 2006年05月11日
要約:
【課題】耐焼付き性及び耐摩耗性に優れ長寿命な転動装置を提供する。【解決手段】深溝玉軸受は、外周面に軌道面1aを有する内輪1と、軌道面1aに対向する軌道面2aを内周面に有する外輪2と、両軌道面1a,2a間に転動自在に配された複数の転動体3と、内輪1及び外輪2の間に複数の転動体3を保持する保持器4と、内輪1及び外輪2の間の隙間の開口を覆うシールのような密封装置5,5と、を備えている。また、内輪1及び外輪2の間に形成され転動体3が配された空隙部内に、深溝玉軸受の潤滑を行うグリースGが封入されている。そして、このグリースGは、合成油と、ウレア化合物と、疎水化処理が施された平均一次粒径3nm以上100nm以下のシリカ微粒子と、を含有している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
外面に軌道面を有する内方部材と、該内方部材の軌道面に対向する軌道面を有し前記内方部材の外方に配された外方部材と、前記両軌道面間に転動自在に配された複数の転動体と、を備え、基油と増ちょう剤と添加剤とを含有するグリースで潤滑される転動装置において、
前記基油を合成油、前記増ちょう剤をウレア化合物とし、前記添加剤を、疎水化処理が施された平均一次粒径3nm以上100nm以下のシリカ微粒子としたことを特徴とする転動装置。
IPC (10件):
F16C 33/66
, C10M 105/04
, C10M 105/36
, C10M 105/38
, C10M 115/08
, C10M 125/26
, C10M 129/10
, C10M 129/76
, C10M 133/12
, C10M 169/02
FI (10件):
F16C33/66 A
, C10M105/04
, C10M105/36
, C10M105/38
, C10M115/08
, C10M125/26
, C10M129/10
, C10M129/76
, C10M133/12
, C10M169/02
Fターム (18件):
3J101AA01
, 3J101AA32
, 3J101AA42
, 3J101AA62
, 3J101EA64
, 3J101FA33
, 3J101FA35
, 3J101GA01
, 4H104AA22C
, 4H104BB05C
, 4H104BB35C
, 4H104BE07C
, 4H104BE13B
, 4H104EA08C
, 4H104EA09C
, 4H104EB02
, 4H104PA01
, 4H104QA18
引用特許:
前のページに戻る