特許
J-GLOBAL ID:200903096335585049

感熱色素転写受容要素

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  杉山 弘子 ,  西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-051829
公開番号(公開出願番号):特開2004-255882
出願日: 2004年02月26日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】 耐引裂き性、色素転写効率、光学濃度及び画質が高く、比較的低コストで製造できる感熱色素転写受容要素を提供することである。【解決手段】 a)色素受容層1;b)層1の下の、連続相ポリエステルマトリックスを含有するミクロボイド層2であって、架橋有機ミクロビーズ及び前記ポリエステルマトリックスと非混和性の非架橋ポリマー粒子の混合物をその中に分散させ、少なくとも25容量%のボイド容積を有するミクロボイド層2;c)層2の下の、ボイド化又は非ボイド化ポリエステル材料からなる基材層3;及びd)層3の下の、支持体4を含んでなる感熱色素転写受容要素、前記要素の製造方法、前記要素を含む感熱色素転写アセンブリ、並びに前記要素上に像様感熱転写色素を含む画像を形成する方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
a)色素受容層1、 b)層1の下の、連続相ポリエステルマトリックスを含有するミクロボイド層2であって、架橋有機ミクロビーズ及び前記ポリエステルマトリックスと非混和性の非架橋ポリマー粒子の混合物をその中に分散させ、少なくとも25容量%のボイド容積を有するミクロボイド層2、 c)層2の下の、ボイド化又は非ボイド化ポリエステル材料からなる基材層3、並びに d)層3の下の、支持体4 を含んでなる感熱色素転写受容要素。
IPC (2件):
B41M5/40 ,  B41M5/38
FI (2件):
B41M5/26 H ,  B41M5/26 101H
Fターム (5件):
2H111AA26 ,  2H111AA27 ,  2H111CA03 ,  2H111CA04 ,  2H111CA25
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 米国特許第4,621,271号
  • 特開昭53-198,645号公報
  • ヨーロッパ特許第582,750号
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