特許
J-GLOBAL ID：200903096337622456
位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-139652
公開番号（公開出願番号）：特開平10-333316
出願日： 1997年05月29日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】マスク基板を掘込んで位相シフタパタンを形成したマスクを用いて周期的パタンを転写した場合、位相シフタパタンの有無によってパタン寸法変動が生じていた。【解決手段】周期的な繰り返しパタンの一つおきに位相シフタパタンを配置し、そのマスクパタンの寸法を位相シフタを配置しないマスクパタンの寸法よりも大きくする。
請求項（抜粋）：
マスクパタンを基板上に転写する際に用いられる、所定の透過パタンと透過光に位相差を与えるための位相シフタパタンを有する位相シフトマスクにおいて、前記位相シフトマスクが周期的な繰り返しパタンの一つおきに位相シフタパタンを配置したマスクパタンを有し、上記マスクパタンの位相シフタパタンを配置したマスクパタンの寸法を位相シフタを配置しないマスクパタンの寸法よりも大きくしたことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 528
