特許

J-GLOBAL ID：200903096346941408

金属酸化物薄膜形成用コーティング剤

発明者： 高谷 和樹
出願人/特許権者： 神東塗料株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-309825
公開番号（公開出願番号）：特開平9-129141
出願日： 1995年11月01日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【目的】 塗布熱分解により金属酸化物薄膜を誘電体に形成する有機酸金属塩と、それを溶解する溶剤、増粘剤及び有機物からなる添加剤とを含有する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤において、塗布し易く、PDPのパネル特性として、実用上望ましい透明性と膜厚を有する、誘電体保護膜を形成出来るコーティング剤を提供する。【構成】 アルカリ土類金属、及び又は稀土類金属の有機酸金属塩、溶剤、増粘剤及び有機物からなる添加剤を含有する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤であって、多価アルコール誘導体、炭素数1〜6の有機酸及びアミンを併用することを特徴とする、塗布熱分解法により金属酸化物薄膜を形成する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤。

請求項（抜粋）：

アルカリ土類金属、及び又は稀土類金属の有機酸金属塩、溶剤、増粘剤及び有機物からなる添加剤を含有する金属酸化物薄膜形成用コーティング剤であって、多価アルコール誘導体、炭素数1〜6の有機酸及びアミンを併用することを特徴とする、塗布熱分解法により金属酸化物薄膜を形成する、金属酸化物薄膜形成用コーティング剤。

IPC (2件)：

H01J 11/02 ,  C09D 1/00 PCJ

FI (2件)：

H01J 11/02 B ,  C09D 1/00 PCJ