特許

J-GLOBAL ID：200903096354433705

光導波路型回折格子素子製造方法および装置

発明者： 柴田 俊和 ,  井上 享
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-331191
公開番号（公開出願番号）：特開2003-131049
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月08日
要約：

【要約】【課題】 屈折率変調の振幅分布が一定でない場合にも容易に光導波路型回折格子素子を製造することができる光導波路型回折格子素子製造方法等を提供する。【解決手段】 光源321から出力された屈折率変化誘起光UVは、位相格子マスク200を介して光ファイバ110へ照射される。光ファイバ110と位相格子マスク110との相対的位置関係に関して2つの状態(第1状態、第2状態)それぞれが設定される。第1状態に対して第2状態では、屈折率変調による回折格子の半周期(Λ/2)だけz方向に相対的にずれて位相格子マスク200が配置される。第1状態では、屈折率変化誘起光UVの照射位置は、z方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って第1照射時間分布T1(z)で走査される。第2状態では、屈折率変化誘起光UVの照射位置は、z方向に沿って屈折率変調形成範囲に亘って第2照射時間分布T2(z)で走査される。

請求項（抜粋）：

光導波路の長手方向に沿った所定範囲に亘って屈折率変調による回折格子が形成された光導波路型回折格子素子を製造する方法であって、前記光導波路の側方に位相格子マスクが配置された第1状態で、一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手方向に沿って前記所定範囲に亘って第1照射時間分布で走査して、前記位相格子マスクを介して前記光導波路に屈折率変化誘起光を照射する第1工程と、前記第1状態に対して前記回折格子の半周期だけ長手方向に相対的にずれて前記位相格子マスクが配置された第2状態で、一定強度の屈折率変化誘起光の照射位置を長手方向に沿って前記所定範囲に亘って第2照射時間分布で走査して、前記位相格子マスクを介して前記光導波路に屈折率変化誘起光を照射する第2工程と、を備え、前記第1工程および前記第2工程それぞれを1回または複数回繰り返して行って前記光導波路型回折格子素子を製造する、ことを特徴とする光導波路型回折格子素子製造方法。

IPC (6件)：

G02B 6/10 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/122 ,  G02B 6/16 ,  G02B 6/293

FI (6件)：

G02B 6/10 C ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/16 ,  G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 F ,  G02B 6/28 D

Fターム (13件)：

2H047LA02 ,  2H047LA19 ,  2H047PA30 ,  2H049AA02 ,  2H049AA06 ,  2H049AA33 ,  2H049AA45 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H049AA62 ,  2H050AC82 ,  2H050AC84 ,  2H050AD00

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光導波路格子の製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-510478   出願人：ピレリー・カビ・エ・システミ・ソチエタ・ペル・アツィオーニ