特許
J-GLOBAL ID：200903096358419200
投影露光装置と露光方法、該露光装置の調整方法、及び回路デバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-198154
公開番号（公開出願番号）：特開平11-045842
出願日： 1997年07月24日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 紫外照明光を用いる投影露光装置の投影光学系や照明光学系で生じる各種の収差を低減した露光方式を提供する。【構成】 投影露光装置によってマスク上のパターンを感光基板上に走査露光する際に、走査方向については投影領域内の幅に渡ってスタティックな像歪み特性が平均化されてダイナミックな像歪み特性になることに着目し、そのダイナミックな像歪み特性のうちの少なくともランダムな成分についは、透明な平行平板の表面を局所的に研磨加工した像歪み補正板を投影光路内に配置することで補正する。また、その他の収差についても走査露光時に平均化されてダイナミックに収差特性になることを考慮して、事前に他の収差を最小にするような補正板を作製して投影光路内に装着する。
請求項（抜粋）：
所定の結像特性を有する投影光学系と、該投影光学系の物体面側に保持されるマスク基板と前記投影光学系の像面側に保持される感応基板を前記投影光学系に対して1次元走査方向に移動させる駆動機構と、前記像面側に投影される前記マスク基板の部分的な像を前記1次元走査方向に所定の幅を有する実効投影領域内に制限する制限手段とを備え、前記マスク基板のパターンを前記感応基板上に走査露光する投影露光装置において、前記投影光学系の物体面側に配置した理想格子点を前記像面側に投影すると該理想格子点の夫々に対応した各像点が前記実効投影領域内で像歪みベクトルを伴うものとしたとき、前記実効投影領域内で前記1次元走査方向に並ぶ複数の像点の各像歪みベクトルを平均した平均ベクトルを前記実効投影領域の前記1次元走査方向と交差した非走査方向の複数の位置の各々において所定の状態に補正するように光学加工された少なくとも1つの光学補正素子を、前記投影光学系内の所定位置に保持する補正素子保持手段を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
