特許

J-GLOBAL ID：200903096358651570

サーミスタ薄膜の製造方法

発明者： 藤井 映志 ,  鳥井 秀雄 ,  友澤 淳
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-156124
公開番号（公開出願番号）：特開2000-348902
出願日： 1999年06月03日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 サーミスタ薄膜を高速形成する製造方法を提供する。【解決手段】 気化器8〜10から供給されるMn、Co、Niを含む化合物の蒸気と酸素ボンベ18から供給される反応ガスを、減圧プラズマ中で分解・反応させ、あらかじめ加熱したアルミナ基板6上にMn、Co、Niの複合酸化物薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

Mnを含む化合物の蒸気と、Coを含む化合物の蒸気と、Niを含む化合物の蒸気と、反応ガスを、減圧プラズマ中で分解・反応させ、あらかじめ加熱した下地基板上にMn、Co、Niの複合酸化物薄膜を形成することを特徴とするサーミスタ薄膜の製造方法。

Fターム (6件)：

5E034BA09 ,  5E034BB08 ,  5E034BC02 ,  5E034BC17 ,  5E034DA02 ,  5E034DE16