特許

J-GLOBAL ID：200903096392930151

曲面を有する構造体及びその製造方法

発明者： 西原 宗和
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-182426
公開番号（公開出願番号）：特開2002-004043
出願日： 2000年06月19日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】 研磨除去工程や熱プロセスを用いることなく、構造体を曲面状に加工し、曲面を有する構造体を得る。【解決手段】 構造体1にスパッタリング膜9を成膜することによって、スパッタリング膜9の内部応力で構造体1を曲面状に加工する。また、曲率の制御は成膜条件を調整することで可能である。

請求項（抜粋）：

スパッタリングにより成膜された薄膜にて曲面に加工されたことを特徴とする曲面を有する構造体。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  G11B 5/31

FI (2件)：

C23C 14/34 Z ,  G11B 5/31 M

Fターム (10件)：

4K029AA04 ,  4K029BA07 ,  4K029BA16 ,  4K029BC00 ,  4K029BD04 ,  4K029CA05 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  5D033DA03 ,  5D033DA31