ポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：玉城信一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-564786
公開番号（公開出願番号）：特表2002-522269
出願日： 1999年08月11日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：

【要約】【課題】樹脂原型、シリカゲル型、泥状物ポタリーにより完成するポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法を提供する。【解決手段】ポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型、該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型、該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーを用い、シリカゲル及び樹脂により完成する。該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーは、適量の泥状物を注入し、上型とけい質型を合併、挟固し、泥状物の十分な乾燥後、上型を除去し、二個の厚みが均一な半面状ポタリーが完成する。二個のポタリーは、接合線位置において泥状物を塗布し、接合線位置の泥状物の乾燥後、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う造形ポタリーが完成する。該造形ポタリーを窯に入れ、高温で焼成する。

請求項（抜粋）：

主にポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型、該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型、該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーを含み、該ポタリー原型をシリカゲル型を用い複製した樹脂原型は、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆うポタリー原型を用い、該ポタリー原型表面にシリカゲルを均一に塗布し、容器中に入れ定位し、該容器中に適量のシリカゲルを注入し、該ポタリー原型を該容器のシリカゲル液に完全に埋没させ、シリカゲルの凝固後、切り口を切り出し、該ポタリー原型を取り出し、該シリカゲル型中に適量の樹脂を注入、或いは流し込み、樹脂の凝固後取り出し、樹脂原型を完成し、該樹脂原型を用い複製、鋳造したシリカゲル型は該樹脂原型と石膏ガード板を結合し、予め鋳造された上半部樹脂原型は平直分割線の上方に位置し、該石膏ガード板をサポートブロック上に平坦に設置し、露出する上半部樹脂原型の表面にシリカゲルを数回塗布し、こうしてシリカゲルは該樹脂原型の表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成し、該石膏ガード板の周囲をガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入し、シリカゲルの凝固後、第一シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了し、該けい質型上面において周囲を取り囲んだガード板の内部空間に適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、底型を形成し、該底型周囲のガード板を取り除き、該底型、該けい質型、該石膏型の全体を製造し、該石膏ガード板を取り外し、該樹脂原型上に粘着する充填料を除去し、該シリカゲル型の底型を平板上に置き、該けい質型上面に脱型剤を塗布し、該けい質型上において上半部樹脂原型の表面を露出させ、シリカゲルを数回塗布し、シリカゲルは該樹脂原型表面において適当な厚さのシリカゲル型を形成し、該ガード板により囲み、適量のシリカゲルを注入し、シリカゲルの凝固後、第二シリカゲル型けい質型鋳造作業を完了し、該二個のけい質型の底型を除去し、該二個のけい質型中の樹脂原型を取り出し、該二個のシリカゲル型の底型と該けい質型をそれぞれ合併し、該けい質型の型孔において適当な厚みの木節土を充填し、周囲を囲んだ後、適量の石膏泥状物を注入し、石膏泥状物の凝結後、上型を形成し、該ガード板を取り除き、該上型を除去し、該けい質型の型孔中の木節土を清除し、型孔をきれいにし、該シリカゲル型を用い鋳造した泥状物ポタリーは、それぞれ該シリカゲル型を平台上に置き、該けい質型の型孔を上向きにし、該けい質型の型孔に適量の泥状物を注入し、続いて該上型と該けい質型を合併、挟固し、注入した泥状物は上型の内型ブロックに押され、泥状物の十分な乾燥後、上型を除去し、二個の厚みが均一な半面状ポタリーが完成し、該けい質型の型孔中に付着する二個のポタリーは、接合線位置において泥状物を塗布し、該二個のけい質型を結合し、接合線位置の泥状物の乾燥後、表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う造形ポタリーが完成し、該造形ポタリーを窯に入れ、高温で焼成し、焼成後の素焼きポタリーの表面には微少なエッジやコーナー、及び装飾模様が密に敷設されることを特徴とするポタリー表面を微少なエッジとコーナーで密に覆う陶器装飾品の製造法。

IPC (3件)：

B28B 7/34 , B28B 1/26 101 , B44C 3/04

FI (3件)：

B28B 7/34 M , B28B 1/26 101 , B44C 3/04

Fターム (6件)：

4G052CA01 , 4G052CC01 , 4G052CC07 , 4G053CA15 , 4G053DA01 , 4G053DA11

引用特許：

出願人引用 (2件)

特開昭61-227813
特開昭61-053007

審査官引用 (2件)

特開昭61-227813
特開昭61-053007

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