特許
J-GLOBAL ID：200903096398735652
プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-206963
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045194
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 サブトラクティブ加工によりガラス基板のエッジまで障壁パターンを形成するに際し、エッジ付近に欠陥を生じないようにする。【構成】 ガラスペースト層2とマスク3をそれぞれガラス基板1のエッジまで形成し、ガラス基板1と同じ高さとなる補助板6をガラス基板1のエッジ端面に接するように配設した状態でサブトラクティブ加工を行う。補助板6がサブトラクティブ加工時の気流の流れを堰き止めるように作用し、その結果、ガラスペースト層2におけるエッジ付近での研削速度が他の部分に比べて速くなるが防止され、エッジ付近に欠陥を生じることなく所望パターンの障壁を形成できる。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上に障壁用のガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させることでガラスペースト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有するマスクを形成した後、該マスクを介してのサブトラクティブ加工によりガラスペースト層の不要部分を除去する工程を含むプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法において、ガラスペースト層とマスクをそれぞれガラス基板のエッジまで形成し、ガラス基板と同じ高さとなる補助板をガラス基板のエッジ端面に接するように配設した状態でサブトラクティブ加工を行うことによりガラス基板のエッジまで障壁パターンを形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法。
IPC (2件)：
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