特許

J-GLOBAL ID：200903096416982301

露光装置、露光方法、および偏光状態測定装置

発明者： 工藤 祐司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-168037
公開番号（公開出願番号）：特開2005-005521
出願日： 2003年06月12日
公開日（公表日）： 2005年01月06日
要約：

【課題】マスクに対する照明光が適切な偏光状態になっているかどうかを判定することができ、必要に応じて適切な光学調整により所望の偏光状態を実現することのできる露光装置。【解決手段】マスク(M)を照明するための照明系(1〜8)を備え、マスクに形成されたパターンを感光性基板(W)に露光する露光装置。マスクおよび感光性基板のうちの少なくとも一方に対する照明光の偏光状態を測定するための偏光状態測定手段(9)を備えている。また、照明系は、マスクに対する照明光の偏光状態を変化させるための偏光状態可変手段(3)をさらに備えている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクを照明するための照明系を備え、前記マスクに形成されたパターンを感光性基板に露光する露光装置において、 前記マスクおよび前記感光性基板のうちの少なくとも一方に対する照明光の偏光状態を測定するための偏光状態測定手段を備え、 前記偏光状態測定手段は、移相子と、偏光子と、前記移相子および前記偏光子を介した光を検出するための光検出器とを有し、 前記移相子および前記偏光子のうちの少なくとも一方は光軸を中心として回転可能に構成され、 前記偏光状態測定手段は、前記移相子と前記偏光子との相対的な回転角度の異なる少なくとも4つの状態を設定するための設定手段をさらに備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521

Fターム (9件)：

5F046BA03 ,  5F046CB05 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB13 ,  5F046CB14 ,  5F046CB15 ,  5F046CB19 ,  5F046CB23