特許
J-GLOBAL ID:200903096428552922

耐γ線安定剤及びそれを含む熱可塑性高分子組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 純博
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP1999003111
公開番号(公開出願番号):WO1999-064506
出願日: 1999年06月10日
公開日(公表日): 1999年12月16日
要約:
【要約】特定の化学構造を有するベンジル化合物(A)100重量部と、スピロ環状構造を有するペンタエリスリトールの亜燐酸エステル(B)0.01〜10重量部との組み合わせからなる新規耐γ線安定剤。該安定剤は熱可塑性高分子(ポリカーボネート等)100重量部に対し上記(A)が0.01〜10重量部、(B)が(A)100重量部に対し0.01〜1重量部含有させるのが好ましい。該安定剤は熱可塑性高分子がγ線照射を受けたときの物性低下や黄変を有効に防止でき、これを添加した重合体の成形加工時の色調悪化が少なく、色相に優れるとともに、成形時の分子量低下、熱安定性及び成形性等にも優れる。該安定剤を含む熱可塑性高分子(特にポリカーボネート)の組成物が得られるが、この組成物は医療器具、医療材料用途、とくに人工透析器ジャケットケースに好適である。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)、(2)、および(3)からなる群より選ばれるベンジル化合物100重量部(式中R1〜R11はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数5〜6のシクロアルキル基及び炭素数6〜10のアリール基から成る群より選ばれ、Ar1、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数6〜20の一価の芳香族基であり、Ar2は置換基を有していてもよい炭素数6〜20の二価の芳香族基であり、pは0又は1であり、Xは、直接結合、または置換基を有してもよい炭素数1〜20のn価の有機基であって、nは1〜5の整数である。)および(B)スピロ環状構造を有するペンタエリスリトールの亜燐酸エステル0.01〜10重量部から実質的になることを特徴とする耐γ線安定剤。
IPC (7件):
C08K 5/06 ,  A61M 1/14 567 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/109 ,  C08K 5/527 ,  C08L 69/00 ,  C08L101/00
FI (7件):
C08K 5/06 ,  A61M 1/14 567 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/109 ,  C08K 5/527 ,  C08L 69/00 ,  C08L101/00

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