特許
J-GLOBAL ID：200903096431312053
懸濁液溶媒の回収精製方法及びその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 績
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-352810
公開番号（公開出願番号）：特開平7-185527
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【目的】 主としてシリコン系の半導体製造工程に使用する水を廃液から回収し、精製して循環再利用することにより、クローズドシステム化を図り、以て環境公害を防止し、かつ溶媒たる水の繰り返し利用することにもよってメンテナンス経費を節減しうる手段を提供することを目的とする。【構成】 一次処理した廃液を入れた容量約30リットルの冷凍槽に直接冷媒コイル又はブラインコイルを用いて-10°C以下に冷却し、シリコン粒子を核として結氷してきた固形物を取り出して隣接する解凍槽に移し、水洗して表面に付着している不純物類を除去した後、解凍した後分級して粗大化したシリコン粒子を主とする固形物を分離して、液体の状態の水として新しい処理水の回路に混入せしめてクローズドシステムの回路を形成する構成とする。
請求項（抜粋）：
微粒子からなるシリコンを含む懸濁液について、一次的に凝集沈降せしめた上澄液を冷凍槽に導き、該上澄液を冷凍してシリコン系粒子を核として結氷せしめた後、解凍して溶媒たる水とを分離して精製し、その水を再利用せしめることを特徴とする懸濁液溶媒の回収精製方法。
IPC (3件)：
C02F 1/22 ZAB
, C02F 1/52 ZAB
, C02F 1/60 ZAB
