特許
J-GLOBAL ID：200903096444335397
ガス冷却・加湿・浄化用スプレー塔及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-237288
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060107
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：
【要約】【目的】 噴霧した液滴が塔の内壁に衝突して廃水を発生したり、ダストが付着したりすることのないガス冷却・加湿・浄化用のスプレー塔を提供する。【構成】 ガス導入口1を有する塔の頂部から順次拡大する拡大部2と、水及び/又は吸収液を噴霧して、ガスの冷却、加湿及び/又は有害成分の除去を行う拡大部又はその直後に取り付けたスプレーノズル4を有する廃水の発生のない乾式のスプレー塔において、前記スプレーノズル4の上流の拡大部2にガスの流速の下向きの成分をスプレー塔の中央部よりも周辺部で速くするためのガス整流装置6を配備したものであり、前記ガス整流装置6は、周辺部の開口率を中央部よりも大きくした多孔板、周辺部にスリットの入った多孔板等がよい。
請求項（抜粋）：
ガス導入口を有する塔の頂部から順次拡大する拡大部及び該拡大部又はその直後に取付けられた水及び/又は吸収液を噴霧して、ガスの冷却、加湿及び/又は有害成分の除去を行うスプレーノズルを有する廃水の発生のない乾式のスプレー塔において、前記スプレーノズルの上流の拡大部にガスの流速の下向きの成分をスプレー塔の中央部よりも周辺部で速くするためのガス整流装置を配備したことを特徴とするガス冷却・加湿・浄化用スプレー塔。
IPC (4件)：
B01J 10/00 103
, B01D 53/18
, F23J 15/04
, F24F 6/14
