有機EL素子の製造方法と装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣澤勲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221186
公開番号（公開出願番号）：特開2001-052862
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】マスク蒸着においても微細なパターンを正確に且つ容易に形成することができる有機EL素子の製造方法と装置を提供する。【解決手段】ガラスや樹脂等の透明な基板10の表面にITO等の透明な電極材料により所定の形状となるように透明電極12を形成し、この透明電極12に有機EL材料からなる発光層を真空薄膜形成技術により積層し、発光層の表面に、透明電極12に対向した所定形状のAl-Li等の背面電極を形成する。発光層の形成に際して、ストライプ状の開口部22を有したマスク20を設け、このマスク20の開口部22は、基板10側の開口部22aの幅が有機EL材料の蒸着源側の開口部22bよりも広く形成されている。基板10にマスク20を位置決めして基板10とマスク20を傾斜させ、有機EL材料の蒸着方向を順次変えて各々蒸着し、マスク20の一つの開口部22に対して基板10の表面の異なる位置に複数の有機EL材料を蒸着させる。

請求項（抜粋）：

透明な基板表面に透明な電極材料により所定の形状となるように透明電極を形成し、この透明電極に有機EL材料からなる発光層を真空薄膜形成技術により積層し、上記発光層の表面に、上記透明電極に対向した所定形状の背面電極を形成する有機EL素子の製造方法において、上記発光層を形成するストライプ状の開口部を有したマスクを設け、このマスクの上記開口部は、上記基板側の開口部の幅が上記有機EL材料の蒸着源側の開口部よりも広く形成され、上記基板に上記マスクを位置決めして上記基板とマスクを傾斜させ、上記有機EL材料の蒸着方向を順次変えて、上記マスクの一つの開口部に対して上記基板表面の異なる位置に複数の有機EL材料を蒸着させることを特徴とする有機EL素子の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 , C23C 14/04 , H05B 33/12 , H05B 33/14

FI (4件)：

H05B 33/10 , C23C 14/04 A , H05B 33/12 B , H05B 33/14 A

Fターム (18件)：

3K007AB18 , 3K007CA01 , 3K007CA02 , 3K007CA05 , 3K007CB01 , 3K007DA00 , 3K007DB03 , 3K007EB00 , 3K007FA00 , 3K007FA01 , 4K029AA09 , 4K029AA11 , 4K029AA24 , 4K029BA62 , 4K029BB03 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029HA03

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