特許
J-GLOBAL ID：200903096470346208
回転磁石アレイ及び固定電磁石を有するスパッタ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹内 澄夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-100572
公開番号（公開出願番号）：特開平8-165568
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1996年06月25日
要約：
【要約】【目的】 スパッタ薄膜のより良い均一性の達成、及びプレーナ・マグネトロン・スパッタリング・デバイス内で概してハート形閉ループ回転磁石アレイを使用する際の、マグネトロン・スパッタソース内のターゲットの効率的利用の改善。【構成】 ターゲット後方の概してハート形閉ループ回転磁石アレイ50及び別々に作動する一対の固定電磁石40,45を含むマグネトロン・スパッタ装置が開示されている。膜厚の均一性、良いステップ・カバレッジ、良いビア充填及び効率的ターゲット利用といった所望の薄膜特性を有するスパッタ薄膜を平坦な基板上に生成するべく、装置が最適化される。概してハート形のアレイ50は、回転軸12上にその中心がある円弧を形成する伸ばされた先端85及びハート形のローブ内の凹状尖端を含む。電磁石40,45は、ターゲットの中心の利用を向上させ、ターゲットの形状変化及び浸食にともなうターゲットと基板間の距離を補償するのに使用される。
請求項（抜粋）：
ターゲットから原子をスパッタし、基板上に薄膜層を蒸着するための、プラズマと共働するマグネトロン・ソースであって、第1面及び第2面を有し、前記第1面はそこから原料がスパッタされる面であり、動作中前記基板及び前記プラズマに近接する、前記ターゲット手段と、前記ターゲットの前記第2面に近接した空間に強度調節可能な磁場を生成するための、前記ターゲットに対し間隔をおいて固定されている電磁石手段と、回転可能な磁場を生成するための、前記ターゲットの前記第2面に近接し前記電磁石手段と前記ターゲットとの間に配置される回転磁石手段と、から成る装置。
IPC (2件)：
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