特許
J-GLOBAL ID:200903096473582743

半導体装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 朝日奈 宗太 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-136704
公開番号(公開出願番号):特開平5-335598
出願日: 1992年05月28日
公開日(公表日): 1993年12月17日
要約:
【要約】【目的】 順方向バイアスに対しては立上り電圧を殆ど0Vにでき、逆方向バイアスに対してはリークの少ない逆耐圧特性を有するダイオードを提供する。【構成】 半導体基板にMOSトランジスタの構造を形成し、ゲート電極6をソース電極7またはドレイン電極8と接続し、半導体基板1を独立の基板電極10としてゲート電極6に印加された電圧に応じてチャネル領域4を導通、非導通にし、ソース電極7、ドレイン電極8間にダイオード作用をさせる。
請求項(抜粋):
第1導電型の半導体層に第2導電型のソース領域とドレイン領域がチャネル領域を介して形成され、該チャネル領域上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極がソース電極またはドレイン電極の一方と接続されてダイオードの一端子とされ、他のソース電極またはドレイン電極がダイオードの他方の端子とされると共に、前記第1導電型の半導体層は前記ソース領域およびドレイン領域から独立した電位とされうる構造のMOS型ダイオードを有する半導体装置。
IPC (2件):
H01L 29/86 ,  H01L 29/784
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭58-178610
  • 特開昭63-205946
  • 特開平3-136376
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