特許

J-GLOBAL ID：200903096480612089

高周波熱プラズマ装置

発明者： 寺島 章 ,  井上 好明 ,  横田 誠二 ,  川嵜 一博
出願人/特許権者： 高周波熱錬株式会社
代理人 (1件)： 八島 正人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-363614
公開番号（公開出願番号）：特開2003-168595
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 プラズマトーチの失火のおそれなしに温度の低い均一温度領域の広いプラズマフレームが得られる高周波熱プラズマ装置。【解決手段】 第1プラズマ1を発生する第1トーチ11と第2プラズマ2を発生する第2トーチ21の誘導加熱コイル17、18が直列若しくは並列に接続されて1電源により電力が付加される2段トーチ(石英管)10を備える。プラズマフレーム中に拡散ガス放出部33と緩衝ブロック34を設けてプラズマフレームを拡散してプラズマフレームの温度を低下させ均一温度の範囲を広くする。

請求項（抜粋）：

被処理物質を加熱処理する高周波熱プラズマ装置において、プラズマフレーム径の小さい第1プラズマを発生する第1トーチとフレーム径の大きい第2プラズマを発生する第2トーチとを有し、該第1トーチと第2トーチの誘導加熱コイルが直列若しくは並列に接続されて1電源により電力が付加される2段トーチを備えたことを特徴とする高周波熱プラズマ装置。

IPC (4件)：

H05H 1/26 ,  B01J 19/00 301 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/30

FI (4件)：

H05H 1/26 ,  B01J 19/00 301 A ,  B01J 19/08 E ,  H05H 1/30

Fターム (7件)：

4G075AA27 ,  4G075AA30 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA47 ,  4G075EB43 ,  4G075FB06

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 球状シリカ粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-095135   出願人：日東化学工業株式会社, 高周波熱錬株式会社
• 特開昭57-007100
  
• 誘導プラズマの発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-295590   出願人：作田忠裕, 富士電機株式会社