特許
J-GLOBAL ID：200903096500176884
酸化物膜形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-017843
公開番号（公開出願番号）：特開平7-207454
出願日： 1994年01月19日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：
【要約】【目的】 有機金属等の高価な原料を使用せず、さらに反応容器や真空減圧装置を必要としない簡便な成膜方法で緻密かつ均一な酸化物薄膜を得る。【構成】 溶質を液体溶媒に溶解させた溶液を超音波噴霧、燃焼炎中に導入し、基体上に吹き付けることにより酸化物膜を直接作製することを特徴とする酸化物膜の形成法を発明した。したがって、溶射法等とは本質的にまったく違った作用により燃焼炎で良好な種々の酸化物膜の作製や着色コ-ティングができる。原料は安価で取扱が容易な硝酸塩や塩化物、しゅう酸塩等が利用でき、また、反応容器を必要とせず、大気中で直接膜を合成できる。
請求項（抜粋）：
溶質を液体溶媒に溶解させた溶液を超音波噴霧、燃焼炎中に導入し、基体上に吹き付けることにより目的の酸化物膜を直接作製することを特徴とする酸化物膜の形成法。
IPC (2件)：
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