特許

J-GLOBAL ID：200903096501323813

真空用フッ素ゴム並びにその製造方法

発明者： 小日向 久 治 ,  左 村 義 隆 ,  朝比奈 稔
出願人/特許権者： 日本バルカー工業株式会社 ,  日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-256534
公開番号（公開出願番号）：特開平6-107803
出願日： 1992年09月25日
公開日（公表日）： 1994年04月19日
要約：

【要約】【構成】本発明の真空用フッ素ゴムは、常温で1×10-5〜1×10-8Torrの雰囲気下で12時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り1×10-7Torr・l/sec・cm2以下であることを特徴とする。また本発明の真空用フッ素ゴムは、メチルエチルケトン溶剤に常温で24時間浸漬した場合における、フッ素ゴムからの抽出量が単位体積当り0.02g/cm3以下であることを特徴とする。このようなフッ素ゴムは、例えば、架橋されたフッ素ゴムを水などの溶剤と接触させることにより得られる。【効果】本発明の真空用フッ素ゴムでは、高真空中に置かれても放出ガス量が少ない。該真空用フッ素ゴムをシール材に用いれば、短時間でチャンバー内を高真空状態にすることができ、しかもチャンバーやチャンバー内の半導体などの被処理物は汚染されず、またCVD装置内にパーティクルが生成することもない。

請求項（抜粋）：

常温で1×10-5〜1×10-8Torrの雰囲気下で12時間放置後のアウトガス放出量が、単位表面積当り1×10-7Torr・l/sec・cm2以下であることを特徴とする真空用フッ素ゴム。

IPC (6件)：

C08J 3/24 CEQ ,  C08F214/18 MKK ,  C08J 3/00 CEQ ,  C08K 3/22 ,  C08K 5/00 KJH ,  C08L 27/12 KJG