特許

J-GLOBAL ID：200903096504657151

荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置

発明者： 沖野 輝昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-218345
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054415
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 ステージの加速やアライメントマーク検出に必要な時間を短縮し、スループットを向上させることのできる荷電ビーム露光方法を提供する。【解決手段】 本露光方法では、被露光面上のストライプ62に沿って、一連の部分的パターンの投影像を次々と結像させて繋ぎ合わせることにより全体のチップパターン61を転写する。ストライプ62の走査開始点を、ストライプの端部が像の偏向範囲に入った時にほぼ露光時の走査速度となるように定める。また、スクライブライン68にアライメントマーク69を設置し、マーク69が荷電ビームの投影光学系の光軸直下にくるよりも前の時点から荷電ビームを偏向させることによりアライメントマークを検出する。

請求項（抜粋）：

被露光面上に想定されるストライプに沿って、一連の部分的パターンの投影像を次々と結像させて繋ぎ合わせることにより全体パターンを被露光面上に転写する、荷電ビームを用いた露光方法であって;ストライプに沿う被露光面の走査と、同じくストライプに沿う偏向による像の順次投影を行い、ストライプの露光開始部位の手前にアライメントマークを設置し、該ストライプの走査開始点を、想定される走査加速度の元で、該ストライプの端部のパターン又は前記アライメントマークが、偏向を含めた像転写の光学的視野の範囲に入った時にほぼ露光時の走査速度となるように定めるとともに、前記アライメントマークが荷電ビームの投影光学系の光軸直下にくるよりも前の時点から荷電ビームを偏向させることによりアライメントマーク上を走査してマーク位置を検出し、該マーク位置に基づいて露光位置を補正することを特徴とする荷電ビーム露光方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147

FI (5件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C ,  H01L 21/30 541 B