特許
J-GLOBAL ID:200903096512130782

熱処理炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宮本 治彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-143579
公開番号(公開出願番号):特開平9-306860
出願日: 1996年05月13日
公開日(公表日): 1997年11月28日
要約:
【要約】【課題】温度均一性および温度応答性に優れた熱処理炉を提供する。【解決手段】熱処理炉500は、棒状ハロゲンランプ14、16と、反射板12、18と、石英ガラスチャンバ20と、均熱板兼間接ヒータ30とを備え、Siウェーハ50を均熱板兼間接ヒータ30内に設ける。均熱板兼間接ヒータ30に熱電対61乃至63を埋め込む。均熱板兼間接ヒータ30を高純度のSiCまたはSiからなり厚さ約1mm乃至5mmの薄板で構成する。Siウェーハ50の加熱は均熱板兼間接ヒータ30を介した間接加熱となり、温度均一性に優れる。また、基本的にランプ加熱であり、均熱板兼間接ヒータ30は熱容量が小さいので、急熱、急冷が容易となり優れた温度応答性が得られる。さらに、高純度のSiCやSiを使用しているので、Siウェーハ50への不純物による汚染が軽減される。
請求項(抜粋):
被熱処理物をランプにより加熱する熱処理炉において、前記被熱処理物と前記ランプとの間に均熱板兼間接ヒータを設けたことを特徴とする熱処理炉。
IPC (4件):
H01L 21/26 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/22 511 ,  H01L 21/324
FI (4件):
H01L 21/26 L ,  H01L 21/22 501 A ,  H01L 21/22 511 A ,  H01L 21/324 D

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