基板へのプラズマ溶射方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：菅直人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-280414
公開番号（公開出願番号）：特開平5-093255
出願日： 1991年10月01日
公開日（公表日）： 1993年04月16日
要約：

【要約】【目的】プラズマ溶射によって試料を基板上に付着させる方法において、基板を加熱しながら移動、回転させ、試料を基板上に均一に付着させる方法を提供する。【構成】本発明は、高周波誘導加熱によって基板を非接触で加熱し、かつ該基板を移動させながらプラズマ溶射を行う基板へのプラズマ溶射方法である。

請求項（抜粋）：