特許
J-GLOBAL ID：200903096531193370
現像原液の希釈装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
,
,
,
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-013026
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062852
出願日： 1987年02月10日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】使用者側においてもホトレジスト用アルカリ系現像原液さえ入手すれば所望濃度の現像液を精度良く迅速に製造することができ、更には希釈操作中や希釈した現像液の貯留中に空気中の炭酸ガスを吸収して濃度が変化しないようにする。【構成】ホトレジスト用アルカリ系現像原液と純水とを攪拌槽18に受け入れて強制攪拌した混合液の一部を抜き出して導電率計20で測定し、測定した結果に基づいて現像原液又は純水の供給を制御して所望濃度の現像液を調整し、現像液タンク22に送る。また、攪拌槽18と現像液タンク22は窒素ガスでシールする。
請求項（抜粋）：
ホトレジスト用アルカリ系現像原液と純水とを受け入れて所定時間強制撹拌する撹拌槽と、前記撹拌槽内の混合液の一部を抜き出しその導電率を測定したのち撹拌槽内に戻す導電率測定手段と、前記導電率測定手段からの出力信号にもとづき前記攪拌槽に供給される現像原液または純水のいずれか一方の流量を制御する制御手段と、前記撹拌槽からの混合液を受け入れ貯留する貯留槽と、前記攪拌槽と前記貯留槽を窒素ガスでシールする窒素ガスシール手段と、を備えたことを特徴とする現像原液の希釈装置。
IPC (3件)：
G03F 7/30
, B01F 3/08
, G01N 27/10
