特許

J-GLOBAL ID：200903096542843759

光学薄膜の製造方法

発明者： 山田 公 ,  豊田 紀章 ,  佐藤 正聡
出願人/特許権者： 山田 公 ,  豊田 紀章 ,  株式会社ニコン
代理人 (1件)： 細江 利昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079110
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279703
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】 Nb2O5についても、蒸着法を用いて成膜する方法を提供する。【解決手段】 真空チャンバ1の中には、容器2の中に2〜3mmφの粒子状の蒸着物質3であるNb2O5が収納されており、これに電子銃4からの電子が加速されて衝突し、Nb2O5を蒸発させる。蒸発したNb2O5は、上方に向かい、窓板5の窓部5aを通過する。窓部5aを通過したNb2O5は、窓板5の上方に設けられた基板ホルダ6に保持された石英基板7の表面に付着する。ガスクラスタ発生部8には、酸素ガスが導入されており、ノズル9から真空中に放出されることによって、断熱膨張し、過冷却状態となって、分子が1000〜2000個程度緩く結合したクラスタとなる。このクラスタの一部をスキマー10を通して取り出し、イオン化部11に導いてイオン化する。そして、イオン化された酸素クラスタビームを電圧加速して、窓板5の窓部5aを通して石英基板7の表面に照射する。

請求項（抜粋）：

光学素子の表面又は光学薄膜の表面に、Nb2O5からなるアモルファス光学薄膜を成膜する製造方法であって、蒸着法によりNb2O5を蒸着させて成膜を施す際に、蒸着面に酸素クラスタイオンビームを照射することを特徴とする光学薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/48 ,  G02B 5/28

FI (5件)：

C03C 17/245 A ,  C23C 14/08 G ,  C23C 14/48 D ,  G02B 5/28 ,  G02B 1/10 A

Fターム (19件)：

2H048GA04 ,  2H048GA51 ,  2H048GA60 ,  2K009AA02 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD03 ,  4G059AA11 ,  4G059AC04 ,  4G059AC07 ,  4G059EA01 ,  4G059EB03 ,  4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BB10 ,  4K029BC08 ,  4K029CA09 ,  4K029EA09