特許

J-GLOBAL ID：200903096545865990

光リソグラフィ装置

発明者： 山形 茂 ,  中村 良平 ,  片岡 正篤 ,  須釜 明彦 ,  剣持 克彦
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323264
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078791
出願日： 1987年12月23日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】 短波長レーザを光源として用いた光リソグラフィ装置に組込まれるレンズその他の光学系として、長時間にわたる屈折率、透過率等の安定性を確保するとともに、蛍光の低減をはかり得るリソグラフィ装置を提供する事を目的とする。【構成】 光リソグラフィ装置の光学系の少なくとも一部を、高純度の石英ガラス材で形成するとともに、該石英ガラス材組織中のOH基含有量を少なくとも300ppm以上に設定した事を特徴とする。

請求項（抜粋）：

光源として400nm以下の特定波長域のレーザ光と該レーザ光をウエーハ上に付光学系とを用いて、ウエーハ上に集積回路パターンを描画する光リソグラフィ装置において、該光リソグラフィ装置の光学系の少なくとも一部を高純度の石英ガラス材で形成するとともに、該石英ガラス材組織中のOH基含有量を少なくとも300ppm以上に設定した事を特徴とする光リソグラフィ装置

IPC (3件)：

H01L 21/30 ,  C03C 3/06 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 B