特許

J-GLOBAL ID：200903096561437893

反射防止コーティング組成物

発明者： ロバート・リチャード・デッチエイラ ,  クリストファー・フランシス・リオン ,  ラトナサバパシー・ソリヤクマラン ,  ゲリー・トーマス・スピニロ ,  ケビン・マイケル・ウェルシュ ,  ロバート・ラビン・ウッド
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-000065
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084789
出願日： 1993年01月04日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、フォトリソグラフィにおける照射光の反射による弊害を排除することを目的とする。【構成】 反射防止コーティング組成物(ARC)は、ミッドUV及びディープUV放射に対して吸収性が高く、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物との接触反応に対して実質上不活性であり、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物の現像剤において不溶性であるポリマ組成物より成り、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物と併用される。従って本発明の組成物を用いた場合、線幅のばらつきは大幅に改善される(2)。

請求項（抜粋）：

ミッドUV及びディープUV放射に対して吸収性が高く、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物との接触反応に対して実質上不活性であり、かつ化学的に増幅されたフォトレジスト組成物の現像剤に対して不溶性であるポリマ組成物より成り、化学的に増幅されたフォトレジスト組成物と併用する反射防止コーティング組成物。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 503

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-040421
  
• 特開平1-202747
  
• 特開平3-249656
  
• 特開平4-052644