特許

J-GLOBAL ID：200903096562360274

金属微粒子の光学定数測定方法

発明者： 和田 順雄
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 篠原 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241768
公開番号（公開出願番号）：特開平5-079973
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】 Bruggemannの有効媒質近似理論を適用するにあたって最も理想的な金属微粒子の分布系を実現し、これにより、より正確に金属微粒子の光学定数を求めるための方法を提供する。【構成】 真空装置内で流動する油面上に真空蒸着法により金属を蒸着して得られる金属微粒子の分布系に、該分布系全体の光学定数と有効媒質近似理論を適用して、上記金属微粒子の光学定数を求めるようにする。

請求項（抜粋）：

真空装置内で流動する油面上に真空蒸着法により金属を蒸着して得られる金属微粒子の分布系に、該分布系全体の光学定数と有効媒質近似理論を適用して、上記金属微粒子の光学定数を求めるようにした金属微粒子の光学定数測定方法。