特許
J-GLOBAL ID:200903096568784955

直接パターンライター

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 社本 一夫 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  宮前 徹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-555592
公開番号(公開出願番号):特表2004-537060
出願日: 2002年01月02日
公開日(公表日): 2004年12月09日
要約:
【解決手段】表面に亘ってビームを走査するための装置は、表面(1078)に亘ってパルス化レーザービーム(1016)を走査するスキャナー(1046)と、該表面に亘る複数の位置でパルス化レーザービームからの入力を受け取り、該表面に沿った該パルス化レーザービームの位置を示す、位置表示を出力する、位置表示手段(1080)と、を備える。位置表示は、表面上にパターンを露光するため、例えば感光性表面上に電子回路パターンを露光するため、装置データを変調するため使用される。そのような装置の一つの使用例が、電子回路の製造である。【選択図】図27
請求項(抜粋):
表面に亘ってビームを走査するための装置であって、 表面に亘ってパルス化レーザービームを走査するスキャナーと、 前記表面の複数の位置で前記パルス化レーザービームからの入力を受け取り、前記表面に沿った前記パルス化レーザービームの位置を示す、位置表示を出力する、位置表示手段と、 を含んでいる、装置。
IPC (2件):
G03F7/20 ,  H05K3/00
FI (3件):
G03F7/20 511 ,  H05K3/00 H ,  H05K3/00 N
Fターム (3件):
2H097AA03 ,  2H097BA02 ,  2H097CA17

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