特許
J-GLOBAL ID：200903096575715063
露光方法及び露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-066453
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275306
出願日： 1991年03月29日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、投影光学系の物面側に異なる光路長の透光性部材を挿入しても投影像の位置ずれ等の防止が可能な露光方法及び露光装置を提供する。【構成】 この発明は、投影光学系4とフォトマスク1との間に挿入される透光性部材2b,31の光路長の和が常に一定になるようにし、この場合に投影光学系4がフォトマスク1のマスクパターン1bの投影像を被露光体6上に結像するように設定したものであり、これにより、例えば、投影光学系4とフォトマスク1との間に種々の厚さのカバーガラス2bを挿入する場合に、このカバーガラス2bの厚さの変動を保障して光路長の和が一定になるような他の透光性部材31を組み合わせてこれらを前記投影光学系4とフォトマスク1との間に挿入するようにすることにより、光学系4を調整することなく、カバーガラス2bの厚さの変動等によるマスクパターン1bの結像位置ずれを防止したものである。
請求項（抜粋）：
フォトマスクのマスクパターンの投影像を投影光学系によって被露光体上に結像させて露光を行う露光方法において、前記投影光学系とフォトマスクとの間に挿入される透光性部材の光路長の和が常に一定になるようにし、この場合に前記投影光学系が前記フォトマスクのマスクパターンの投影像を被露光体上に結像するように設定したことを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/207
