特許

J-GLOBAL ID：200903096581203635

基板洗浄装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-339304
公開番号（公開出願番号）：特開平9-181030
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】 基板の種類および洗浄条件に応じて洗浄液に印加する超音波出力を自動的に変更することができる基板洗浄装置を提供することである。【解決手段】 純水源20の純水は純水供給管21を介して超音波ノズル8に供給される。超音波ノズル8は高周波振動子9を内蔵する。制御部11は、洗浄条件設定パネル31、CPU32、メモリ33および操作パネル34を含む。洗浄条件設定パネル31は、基板の回転数、洗浄時間、超音波ノズル8の走査速度、超音波ノズル8の走査回数等の洗浄条件を設定するために用いられる。洗浄条件には純水に印加する高周波出力も含められる。この洗浄条件はメモリ33に記憶される。CPU32はメモリ33に記憶された洗浄条件に従って高周波発振器10に制御信号CTを与える。高周波発振器10は制御信号CTに応じた値の高周波電流を超音波ノズル8内の高周波振動子9に与える。

請求項（抜粋）：

超音波印加手段により超音波振動が加えられた洗浄液をノズルから基板の表面に供給することにより基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、前記超音波印加手段の超音波出力を含む基板の洗浄条件を設定するための設定手段と、前記設定手段により設定された前記洗浄条件に応じて前記超音波印加手段の超音波出力を可変制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/12 Z