特許

J-GLOBAL ID：200903096582385338

コポリマー及びそれを含有してなる化粧料

発明者： 井柳 宏一
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135295
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316435
出願日： 2000年05月09日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 水溶性であって、使用後は疎水性の皮膜を形成するコポリマー及び/又はその塩及びそれを含有してなる、整髪などに有用な化粧料を提供する。【解決手段】 一般式(I)に表されるモノマーから選ばれる1種乃至は2種以上と一般式(II)に表されるモノマーから選ばれる1種乃至は2種以上とを構成モノマーとして含有するコポリマーにおいて、曇点を有することを特徴とする、コポリマー及び/又はその塩を作成し、頭髪用の化粧料など化粧料に含有させる。【化1】一般式(I)(但し、式中R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2は炭素数4〜30の炭化水素基を表す。)【化2】一般式(II)(但し、式中R3は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R4はアルキルオキシ基、アシロキシ基又は水酸基を有していても良い、炭素数2〜4のアルキル基を表し、R5は水素原子、芳香族乃至は脂肪族の炭素数1〜8の炭化水素基又はアシル基を表し、nは2〜40の数値を表す。)

請求項（抜粋）：

一般式(I)に表されるモノマーから選ばれる1種乃至は2種以上と一般式(II)に表されるモノマーから選ばれる1種乃至は2種以上とを構成モノマーとして含有するコポリマーにおいて、曇点を有することを特徴とする、コポリマー及び/又はその塩。【化1】一般式(I)(但し、式中R1は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R2は炭素数4〜30の炭化水素基を表す。)【化2】一般式(II)(但し、式中R3は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、R4はアルキルオキシ基、アシロキシ基又は水酸基を有していても良い、炭素数2〜4のアルキル基を表し、R5は水素原子、芳香族乃至は脂肪族の炭素数1〜8の炭化水素基又はアシル基を表し、nは2〜40の数値を表す。)

IPC (5件)：

C08F290/06 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F220/26

FI (5件)：

C08F290/06 ,  A61K 7/00 G ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/11 ,  C08F220/26

Fターム (36件)：

4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC182 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD152 ,  4C083BB53 ,  4C083CC04 ,  4C083CC32 ,  4C083DD08 ,  4C083DD23 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4J027AC02 ,  4J027AC03 ,  4J027AC04 ,  4J027AC06 ,  4J027AJ02 ,  4J027BA07 ,  4J027BA10 ,  4J027BA11 ,  4J027CB04 ,  4J027CC02 ,  4J027CD00 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA08P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC43Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA36 ,  4J100JA61