特許

J-GLOBAL ID：200903096598283578

水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法

発明者： パトリック ジェイ. サリヴァン
出願人/特許権者： チバ-ガイギー アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-115433
公開番号（公開出願番号）：特開平5-169094
出願日： 1992年04月08日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：

【要約】【目的】 水性系におけるスケール、腐蝕及び徴生物の防止方法を提供する。【構成】 (a)ホスホネート(例えば2-ヒドロキシーホスホノ酢酸)の有効なスケール及び腐蝕防止量を用いて水性系を連続的に処理し、(b)スラッグ投与技術を使用して水性系に、該水性系に対して第一、第二又は第三アミン(例えばモノエタノールアミン)2ないし5ppmを添加し、次いで(c)水性系中に前記アミンが実質的に完全に分散したら、スラッグ投与技術を使用してハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩素、次亜塩素酸塩及び臭化物塩からなる群から選択された殺生剤の有効な殺生量を添加する。【効果】 アミンを併用することにより、殺生剤によるホスホネートの分解が防止される。

請求項（抜粋）：

(a)ホスホネートの有効なスケール及び腐蝕防止量を用いて水性系を連続的に処理し、(b)スラッグ投与技術を使用して水性系に、該水性系に対して第一、第二又は第三アミン2ないし5ppmを添加し、次いで(c)スラッグ投与技術を使用してハロゲン化ヒダントイン、臭素、塩素、次亜塩素酸塩及び臭化物塩からなる群から選択された殺生剤の有効な殺生量を添加することにより、水性系中に前記アミンを実質的に完全に分散させることからなる、水性系におけるスケール、腐蝕及び微生物の防止方法。

IPC (5件)：

C02F 5/14 ,  C02F 1/50 ,  C02F 9/00 ,  C23F 11/167 ,  C23F 11/18